优点:

创造出其他真空泵不能创造的极纯净真空环境，能排出所有种类气体，不需要液氦因而运行成本低廉，能在任意方向进行安装，设计紧凑轻便，操作简单，排气速度远高于离子泵、涡轮分子泵。

用途：

真空镀膜、表面分析、半导体加工、溅射镀膜、离子注入等。